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DWL 66+激光直寫系統(tǒng)
 
   
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DWL 66+激光直寫系統(tǒng)

研究開發(fā)用的激光無掩模直寫制程系統(tǒng)：DWL 66+n以低價格實現(xiàn)高分辨率，能于立體構(gòu)造上進行 3維的繪畫方式 。DWL 66+ 適用于掩模板的試制和直接進行描寫的研究開發(fā)。低價格且高分辨率的激光圖形直寫系統(tǒng)。最大基板尺寸為 9 × 9"，最小繪畫尺寸 0.6?? 。能作出復(fù)雜的立體構(gòu)造進行 3維的繪畫。nnDWL 66+ 的基本顧客，包括全球超過 150 家以上的頂尖大學(xué)和研究機構(gòu)。,"

  • 貨　　號：G54DC1DB1D7BC44
  • 品　　牌：Heidelberg Instruments
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